Lớp phủ tế bào nhiên liệu siêu âm bằng hệ thống vòi phun siêu âm

Lớp phủ tế bào nhiên liệu siêu âm bằng vòi phun siêu âm

Quá trình nguyên tử hóa bằng siêu âm Giới thiệu quá trình nguyên tử hóa bằng siêu âm.Vòi phun sử dụng năng lượng siêu âm để chuyển chất lỏng thành dạng sương mù nhỏ của các giọt nước có độ nhớt thấp.Công nghệ này được sử dụng trong ngành công nghiệp lắp ráp điện tử, đặc biệt là trong ứng dụng hàn chất lỏng để lắp ráp mạch in, mô-đun đa kênh (MCM, mô-đun đa kênh), linh kiện rời, mảng lưới bóng (BGA) và đóng gói quy mô chip (CSP), Tìm một loạt các ứng dụng.Phun có độ nhớt thấp là yếu tố quan trọng trong các ứng dụng này, bởi vì với không khí hoặc nitơ, hình dạng phun có thể nhỏ đến 0,070 "và lớn tới 18" chiều rộng tùy thuộc vào vòi phun.Do khả năng này, một lượng nhỏ từ thông có thể được áp dụng cho các thành phần như BGA, và các cụm mạch in lớn có thể được bao phủ bằng thông lượng trước khi hàn sóng.Vì vận tốc tạo ra bởi vòi phun siêu âm thường là vài inch / giây, nên việc phân phối tia phun và định hình nó thành một dòng khí chuyển động chậm và rõ ràng là rất đơn giản.Khi phun hướng vào bề mặt mục tiêu cần phủ, chất lỏng có xu hướng bật ra khỏi bề mặt và đi vào môi trường.

Sự miêu tả:

Một đặc tính khác của vòi siêu âm là nó có thể đáp ứng nhiều loại tốc độ dòng chảy.Nguyên tử hóa siêu âm không cần áp suất.Tốc độ nguyên tử hóa chất lỏng chỉ được xác định bởi tốc độ nó được đưa vào vòi phun.Vòi phun có thể được thiết kế để xử lý tốc độ truyền tải rất nhỏ, thấp đến vài mililít mỗi phút, hoặc tốc độ dòng chảy tương đối lớn, lên đến vài trăm mililít mỗi phút.Phun thông lượng Kể từ đầu những năm 1990, đầu phun siêu âm đã được sử dụng thành công để phun thông lượng cho các hoạt động hàn sóng PCB trực tuyến, chủ yếu cho các sản phẩm như không sạch, hòa tan trong nước, không chứa VOC và RA (nhựa thông hoạt tính hoàn toàn) Thông lượng hàn .Để bao phủ toàn bộ bề mặt bảng bằng dòng chảy, phun từ vòi phun tĩnh được chuyển tải trong không khí tốc độ thấp để tạo thành một dải sương mù rộng và hẹp, được lắng đọng đều trên bề mặt dưới cùng của bảng khi bảng đi qua Xịt nước.Kỹ thuật tương tự có thể được sử dụng để phun từ trên xuống.Phun thông lượng có ưu điểm hơn so với các phương pháp ứng dụng thông lượng cũ, chẳng hạn như tạo bọt hoặc thông lượng sóng.So với phương pháp cũ, phun chất trợ dung giảm tiêu thụ chất trợ dung đến 70%, loại bỏ nhu cầu pha loãng chất trợ dung, cung cấp khả năng kiểm soát quá trình tốt hơn và giảm các khuyết tật.Trong vài năm qua, xu hướng ngành công nghiệp đã chuyển sang phun thông

Đặc trưng
Lớp phủ đồng nhất: độ đồng đều> 95%
Tiết kiệm nguyên liệu: tỷ lệ sử dụng nguyên liệu trên 85%, gấp 4 lần so với vòi phun khí truyền thống
Độ chính xác kiểm soát cao của độ dày lớp phủ: Có thể phun chính xác các lớp phủ từ 20 nm đến hàng chục micron.
Không tắc nghẽn
Vòi phun chống ăn mòn
Độ chính xác cao, độ phun có thể kiểm soát cao.

Kỹ thuật.thông tin:

Các ứng dụng
Điện tử: Photoresists lên Wafer, Sensors, PCB Fluxing, Semiconductors, v.v.
Công nghiệp: Kính, Màn hình cảm ứng, v.v.
Y tế: Dệt may y tế, Stent, Ống thông khí cầu, Thiết bị chẩn đoán, v.v.
Năng lượng: Pin nhiên liệu, Pin mặt trời, v.v.